高纯氩在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体;可用作系统清洗、屏蔽和增压用的惰性气体;在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。高纯氩也可作为色谱载气。氩被广泛用来充填弧光灯、荧光灯和电子管;焊接保护气;在钛、钴和其他活性金属的生产中用作屏蔽气;在黑色冶金中用于吹炼特种钢。在金属冶炼方面,氧、氩吹炼是生产优质钢的重要措施,每炼1t钢的氩气消耗量为1~3m3。此外,对钛、锆、锗等特殊金属的冶炼,以及电子工业中也需要用氩作保护气。
你未必知道的工业气体知识,你懂得吗?标准大气压,氧气气体供应,1atm=101325Pa地心引力对大气层作用的结果(规定纬度45度,安徽气体,海平面上常年平均空气压力为标准大气压),氮气气体多少钱,工程大气压,公斤力/平方厘米------at=kgf/cm2 =9.8×104 Pa=98 kPa(1kgf=1kg*9.8m/s2=9.8N---1 cm2 =1 m2×10-4)磅力/平方英寸lbf/in2---PSI (Pounds per Square Inch),氧气气体价格,1MPa=145PSI,其他压力单位:巴(BAR)气象常用压力单位1bar=0.1MPa=100Kpa,1bar=1.02kgf/cm2,毫米gong柱------------------mmHg,毫米水柱(英寸水柱)---mmH2O(inH2O),1bar=750mmHg=10197mmH2O,绝压与表压,绝压=表压+当地当时大气压-----atmgauge----g----表压。
一氧化氮的用途:1、用于半导体生产中的氧化、化学气相沉积工艺,并用作大气监测标准混合气。用于制造xiao酸、亚xiao基羧基化合物,人造丝的漂白。用于医学临床实验辅助诊断,有机反应的稳定剂。一氧化氮应储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、卤素、食用化学品分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。
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